在众多可能的传统光刻的可能替代技术中，纳米压印光刻技术由于高分辨率和低成本成为下一代光刻技术的领跑者。它采用传统的机械模具微复型原理来代替包含光学、化学及光化学反应机理的传统复杂光学光刻，突破了对特殊曝光束源、高精度聚集系统、极短波长透镜系统以及光刻胶分辨率受衍射极限的限制。目前纳米压印技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。此外，纳米压印技术可应用的范围相当广泛，涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置（微混合器、微反应器），超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。
然而在实际应用中，纳米压印光刻的实现离不开高精度的对准技术。在紫外纳米压印光刻中，由于光刻胶填充在基底和模板之间，且光刻胶的光学性质接近于模板，使得刻蚀在模板上的对准标记变得模糊不清，难以实现高精度的原位对准。王亮教授凭借丰富的设计经验，带领团队制造了一组具备高衍射效率、高对比度的对准标记，解决了原位对准系统中的低对比度问题。这项结果有助于解决紫外纳米压印多层次压印中的对准问题，极大丰富了紫外纳米压印的应用领域，使得这项技术更具备实用化前景。此外，王亮教授还正积极带领团队研发新型平板滚动纳米压印机。相比于市场上的压印设备，平板滚动纳米压印机可以实现高速，高精度的图形转移，具有极大的商业价值。
上述研究得到了中国科学技术大学启动资金的资助。
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